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AMETEK CAMECA發(fā)布研究和工業(yè)用高負(fù)荷耐用型原子探針顯微鏡
點(diǎn)擊次數(shù):1958 更新時(shí)間:2019-10-11

作為科學(xué)儀器和測量解決方案領(lǐng)域的*,AMETEKCAMECA正式發(fā)布新款原子探針顯微鏡EIKOS-UV。EIKOS-UV原子探針顯微鏡耐受高負(fù)荷工作強(qiáng)度,使用更方便,同時(shí)具有較低的擁有成本。此款顯微鏡采用標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡試樣制備方法,可提供納米級結(jié)構(gòu)信息,從而獲得對研究材料的全新了解,同時(shí)加快工業(yè)應(yīng)用產(chǎn)品的開發(fā)進(jìn)程。

“CAMECA十分自豪地推出EIKOS-UV。”CAMECA事業(yè)部經(jīng)理JesseOlson博士這樣說道。“我們相信,無論是采用電壓脈沖模式還是紫外線激光脈沖模式,通過EIKOS-UV,顯微鏡技術(shù)人員、研究者和工程師行業(yè)的眾多新手都能夠掌握原子探針斷層分析術(shù),從而在原子層面對其材料進(jìn)行成像處理”。

Olson繼續(xù)說道,“CAMECA在原子探針測量儀器和應(yīng)用開發(fā)領(lǐng)域擁有30余年成功經(jīng)驗(yàn)的積淀,并在此基礎(chǔ)上推出全新EIKOS-UV平臺(tái),從而樶大程度提升商用合金和大學(xué)層面的關(guān)鍵研究利用價(jià)值。通過EIKOS-UV的設(shè)計(jì)、布局和空間構(gòu)造,可根據(jù)現(xiàn)場的要求進(jìn)行靈活配置,可靠性高和使用方便的特性得益于兩項(xiàng)主要儀器創(chuàng)新設(shè)計(jì):通過預(yù)調(diào)節(jié)內(nèi)置電極,無需進(jìn)行現(xiàn)場調(diào)節(jié),以及全新355nm激光脈沖系統(tǒng)”。

EIKOS-UV應(yīng)用十分廣泛,其中包括金屬、半導(dǎo)體、功能性材料、礦物、原子結(jié)構(gòu)材料、薄膜和涂層。所用標(biāo)準(zhǔn)試樣制備方法和成熟數(shù)據(jù)分析流程,使其成為適用于納米級材料研究和工業(yè)材料開發(fā)、耐受高負(fù)荷強(qiáng)度的主力儀器,以及CAMECA原子探針斷層分析術(shù)產(chǎn)品系列的重要擴(kuò)展。

EIKOS-UV可提供兩個(gè)配置方式。第1個(gè)是基礎(chǔ)EIKOS系統(tǒng),其中融合了反射光譜儀的設(shè)計(jì),通過電壓脈沖系統(tǒng)獲得很好的質(zhì)量分辨率和噪聲信號(hào),以確保在涵蓋廣泛的冶金應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)*的數(shù)據(jù)質(zhì)量。第二個(gè)是全配置EIKOS-UV系統(tǒng),其中將計(jì)算機(jī)控制的焦點(diǎn)設(shè)計(jì)加入集成式自動(dòng)化激光脈沖模塊,以實(shí)現(xiàn)更大應(yīng)用范圍,以及更高等級的噪聲信號(hào)?;A(chǔ)型EIKOS系統(tǒng)可在現(xiàn)場升級至EIKOS-UV。

原子探針斷層分析術(shù)(APT或3DAPT)是僅有的在子級三維空間成像和化學(xué)成分測量方面都能夠?qū)崿F(xiàn)全面原子級應(yīng)用的材料分析技術(shù)。此項(xiàng)技術(shù)在20世紀(jì)60年代研發(fā)成功,從那時(shí)起就一直對材料科學(xué)的重大進(jìn)步產(chǎn)生了重要作用。原子探針顯微鏡由CAMECA進(jìn)行專屬研發(fā)和制造,已應(yīng)用于研究和開發(fā)實(shí)驗(yàn)室。

CAMECA原子探針斷層分析術(shù)系列產(chǎn)品,現(xiàn)在有兩個(gè)產(chǎn)品系列:LEAP5000(本地電極原子試樣),其中采用具有納米級分辨率、速度快、靈敏度樶高的三維成像和分析,應(yīng)用極為廣泛(金屬、氧化物、陶瓷、能量儲(chǔ)存材料、半導(dǎo)體和電子器件、生物礦物和地質(zhì)化學(xué));以及全新推出的EIKOS-UV產(chǎn)品系列,在學(xué)術(shù)和工業(yè)應(yīng)用中,使用都十分方便,而且成本低,從而有利于原子探針斷層分析術(shù)的推廣應(yīng)用。

關(guān)于CAMECA

CAMECA®擁有60余年材料顯微和納米分析應(yīng)用領(lǐng)域的科學(xué)儀器設(shè)計(jì)、制造和維護(hù)經(jīng)驗(yàn)。自從在20世紀(jì)50年代完成具有開創(chuàng)性的電子探針顯微分析(EMPA),以及60年代推出二次離子質(zhì)譜儀(SIMS)以來,CAMECA一直是*的,在一些輔助技術(shù)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了無數(shù)項(xiàng)創(chuàng)新突破,例如低能量電子感應(yīng)X射線發(fā)射光譜法(LEXES)和原子探針斷層分析術(shù)(APT)。

CAMECA是阿美特克材料分析部門成員,阿美特克是電子儀器和機(jī)電設(shè)備的*,年銷售額約為50億美金。為材料分析、超精密測量、過程分析、測試測量與通訊、電力系統(tǒng)與儀器、儀表與控制、精密運(yùn)動(dòng)控制、電子元器件與封裝、特種金屬產(chǎn)品等領(lǐng)域提供技術(shù)解決方案。共有17,000多名員工,150多家工廠,在美國及其它30多個(gè)國家設(shè)立了100多個(gè)銷售及服務(wù)中心。

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